2026-09-19 · Fuente：Tom's Hardware
El líder de escáneres EUV avanza sus fuentes de luz de plasma producido por láser hacia 1,000W y muestra poco interés en la tecnología de láser de electrones libres basada en aceleradores de partículas respaldada por Elon Musk.
ASML está redoblando la apuesta por el plasma producido por láser (LPP) como fuente de luz de sus escáneres de litografía EUV, impulsando el desarrollo de la tecnología hacia sistemas de clase 1,000W, según un reporte de Tom's Hardware. La compañía continúa avanzando con sus fuentes EUV LPP, y ese impulso es la razón clave por la que muestra apenas interés en un enfoque alternativo: fuentes de láser de electrones libres (FEL) basadas en aceleradores de partículas para herramientas de fabricación de chips.
El concepto FEL no carece de respaldo de alto perfil. Elon Musk ha lanzado su apoyo al método basado en aceleradores de partículas para generar la luz ultravioleta extrema de la que dependen los escáneres EUV para definir los patrones de los chips. Pero con las propias fuentes basadas en plasma de ASML avanzando, el reporte indica que la compañía ve poca razón para rediseñar sus herramientas en torno a la tecnología de aceleradores, una postura que efectivamente deja al margen la opción FEL dentro de la hoja de ruta de litografía dominante de la industria.
Para los fabricantes de chips, la fuente de luz es una palanca crítica de la productividad del escáner: una mayor potencia de la fuente generalmente se traduce en más luz EUV utilizable y mayor rendimiento por herramienta. El compromiso de ASML con sistemas LPP de 1,000W indica por tanto confianza en que la ingeniería continua de su arquitectura existente puede seguir entregando esas ganancias, y no un salto disruptivo hacia una forma fundamentalmente distinta de generar la luz. Ese cálculo importa para las fabs que planifican capacidad en torno a nodos de proceso basados en EUV.
El desplante deja al concepto basado en aceleradores sin el respaldo que más importaría: la adopción por el propio fabricante líder de escáneres EUV. A menos que los defensores del FEL puedan demostrar ventajas que superen la madurez de la hoja de ruta LPP de ASML, la tecnología parece destinada a permanecer fuera de la cadena de herramientas convencional de fabricación de chips en el futuro previsible. Por ahora, los escáneres de ASML seguirán obteniendo su luz del plasma producido por láser, a niveles de potencia en constante aumento.
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